集団戦は可能な限り抑える
「おびき寄せ」のシステムで敵を1体ずつないし可能な限り少数で戦うのが基本。
敵が複数体いると受けるダメージも数分倍増するので回復が枯渇しやすくなる。
さらにヘイト管理の難易度も上がる（ヒーラーが回復アーツをタンクに使った際に、タンクをターゲットしている敵全てにヘイトを溜めてしまうため）
さらにヘイト管理の難易度も上がる（ヒーラーが回復アーツをタンクに使った際に、タンクをターゲットしている敵全てにヘイトを溜めてしまうため）
集団戦が避けられない場合には、集中攻撃の命令にして火力のあるパーティ構成で相当速度を上げることも重要になる。
範囲攻撃の巻き添えを最小限に抑える
扇形や前方直線上などの範囲攻撃は、立ち位置によってターゲットされているタンク以外も巻き添えを受けてしまう。
パーティ内で持っている回復量は有限のため、余計なダメージは可能な限り抑える必要がある。
パーティ内で持っている回復量は有限のため、余計なダメージは可能な限り抑える必要がある。
範囲攻撃には下記の種類があり、そのほとんどが位置取り次第で巻き添えを受けないようにできるため、かなり重要な要素。
敵前方に扇状に広がる攻撃（前方扇型）
敵の側面や背面にいれば当たらない。
敵前方に直線上に広がる攻撃（前方直線型）
敵の側面や背面にいれば当たらない。
敵の攻撃がヒットした味方から円状に広がる攻撃（ヒット位置円形型）
それなりに広い範囲で広がるものが多いが、十分に離れているカルナは避けられることがある。
敵の一定半径内に広がる攻撃（自円形型）
多くの自円形攻撃はかなり広範囲に設定されていてほぼ全体攻撃の意味合いが強い攻撃。
ただ、一部強力なダメージや効果を持つ攻撃はかなり狭く設定されている。
その場合は、集合命令をかけて間合いを離すことで全員が被弾を抑えることができる。
その場合は、集合命令をかけて間合いを離すことで全員が被弾を抑えることができる。
リキの回復アーツ（ガンバルも）やメリアのエレメントの効果を得られる位置取りをする
リキの【ガンバルも】は3人全員を回復することで単純計算でカルナの【ヒールブラスト】すらも大きく超える回復効率になるのでかなり重要。
また、メリアのエレメントも同様で、全員がしっかりサモンアースなどの耐性アップ効果を得ることで円形範囲攻撃への対策になる。
ちょっとの前方扇形や前方直線型の攻撃くらいであれば喰らってでも3人が密集したほうが良い場合もあるかもしれない。
ヘイト管理を意識する
主にラインでタンクを自操作する際に意識が必要な要素。
ラインはヘイト獲得力が郡を抜いて高いため、味方よりも高いヘイトを獲得していればそれ以上ヘイトを獲得する必要がない。
ラインはヘイト獲得力が郡を抜いて高いため、味方よりも高いヘイトを獲得していればそれ以上ヘイトを獲得する必要がない。
集団戦においてはターゲットが取れた後も同じ敵を攻撃していては、周りの敵がヒーラーをターゲットにしてしまうため、別の敵に【マッドタウント】やアーツを使用することで複数体の敵のターゲット取りを行う必要がある。
また、範囲攻撃も可能な範囲で多くの敵に当たるように位置取りするのがベストだが、味方が巻き添えを受けないような場所か気をつけなければならない点も注意が必要。
他のタンク適正が高いキャラであるダンバン、リキ、フィオルンでは、複数体のヘイトを獲得するのは中々難しい。
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