有害物
- 利用/試用禁止物質
- 規制対象物
- 黄燐マッチ
- ベンジジン/当該生成塩:毒性
- β-ナフチルアミン/当該生成塩:化学反応用途
- 4-アミノジフェニル/当該生成塩:顔料製造用途
- 4-ニトロジフェニル/当該生成塩:樹脂原料
- 石綿
- ビスクロロメチルエーテル:合成中間体
- ベンゼン添加ゴムのり
- 利用/試用禁止制約内容
- 製造制約物質
- 規制対象物
- ジクロロベンジジン/当該生成塩:顔料製造用途
- α-ナフチルアミン/当該生成塩/当該生成塩:染料製造用途
- 塩素化ビフェニル:高絶縁性能
- オルト-トリジン/当該生成塩:塩素検出用途等
- ジアニシジン/当該生成塩:染料等
- ベリリウム/当該化合物
- ベンゾトリクロリド:紫外線吸収剤等
- 許可申請先:厚生労働大臣
労働衛生保護具
- 保護具における制約
- 構造における制約
- 規格外の構造における禁止事項
- 規制対象
- 防塵マスク
- 防毒マスク
- ハロゲンガス
- 有機ガス
- 1酸化炭素
- アンモニア
- 亜硫酸
- 再圧室:減圧障害における再圧治療用途の圧力容器
- 潜水器
- 特定エックス線装置
- ガンマ線照射装置
- チェーンソー
- 参考:送気マスク/防音防護具は規制対象外
定期自主検査
- 特定有害環境の設置機材分類別制約
- 局所排気装置
- 分類
- プシュプル型換気装置
- 除塵装置
- 排ガス処理装置
- 排液処理装置
- 検査間隔:1[r/y]
- 特定化学設備/付属設備
- 透過写真撮影用ガンマ線照射装置
- 原則の検査間隔:1[r/m]
- 特定の検査間隔:1[r/6m]
- 参考:全体換気装置は検査不要
最終更新：2012年08月26日 14:39
