第5再開発島ラナクア ～夕日煌く戦野～ - BORDER BREAK (PS4) @ ウィキ | ボーダーブレイク

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概要

第5再開発島ラナクアのDマップ（スタンダードバトルでは2マップ目）
戦場の時間帯が夕方になっている。
昼のラナクアとの違いはCプラントが高台からその麓の給水塔近辺に移った点。それに伴いBDプラントのカタパルトも高台行きから給水塔行きに変わっている。その一方でCプラントのリスポンポイントは高台のままなのでCプラントを確保出来るとそこへのアクセスが悪くなる相手より高所を確保しやすくなる。
しかし、相変わらず高台からの凸はBDプラントのリスポンと被りやすく、Cプラントが給水塔側に変わったこともあって凸難易度の高さは健在の戦闘MAPとなっている。

設置施設一覧

プラント

5ヶ所。ベース前プラントの他、3ヶ所ある鉄塔の下がプラントになっている。

詳細は後述
両陣営ともプラントCまでカタパルトによるアクセスが良い

リペアポッド

6ヶ所。
両陣営ベース内に各2基、プラントB併設が1基、プラントD併設が1基

カタパルト

10ヶ所
両陣営ベース内に各2基
第1プラントに各1基
第2プラントに各2基

兵装換装エリア

4ヶ所

両陣営のベース内、第2プラントとプラントCの間

索敵施設

2ヶ所。索敵範囲：半径60m

α陣営ベース

山と地形を利用したベース。
ベース前の建物の屋根から侵入できる。
ベース内に地面の起伏があり左右非対称な自動砲台配置となっている。
自動砲台安全地帯は東側カタパルト近くの柱のコア側。

プラントA

ベース前プラント。
α陣営の再出撃位置：カタパルト手前の建物上
β陣営の再出撃位置：プラントB併設リペアポッド付近

索敵施設付近の構造物上からプラントA付近の建物に飛び移れる。

プラントB

α陣営側鉄塔の下プラント。
リペアポッド併設。カタパルト付近にある。
α陣営の再出撃位置：索敵施設とプラントBの間、線路上
β陣営の再出撃位置：索敵施設と換装エリアの間

海側の段差にも占拠範囲がある。

プラントC

中央の鉄塔の下プラント。
α陣営の再出撃位置：プラントB・Dの中間
β陣営の再出撃位置：プラントB・Dの中間
占拠陣営は高台側が再出撃位置となり戦線を優位に運ぶことができる。

プラントD

β陣営側鉄塔の下プラント
リペアポッド併設。カタパルトのある高架下付近にある。
リペアポッドからカタパルトへのアクセスが悪い。
α陣営の再出撃位置：換装エリア付近の鉄橋上
β陣営の再出撃位置：高架上カタパルト付近

β陣営の再出撃位置が占拠範囲からやや遠く、高架が視線を遮る。

プラントE

ベース前プラント
α陣営の再出撃位置：プラントD・Eの中間、高架下
β陣営の再出撃位置：カタパルト付近の建物上

β陣営ベース

エア・クッション型揚陸艇みたいな左右対称なベース。
自動砲台安全地帯は両カタパルト付近の柱の横とベース奥のエリア換装エリア手前。

戦術

プラントCを中心とした占拠戦と戦線維持能力が求められるマップ。
プラントCを占拠した陣営は中央高台からの再出撃となりプラントC防衛・敵陣営第2プラント侵攻のアドバンテージを得る。
プラントCを占拠された陣営の前線索敵は高台とプラント両方をカバーする必要がある。
足並みをそろえてプラントを奪取しないとキルデス不利を背負うことになる。
凸はBDプラントが高台の坂の麓にそれぞれ移ったことで、坂を下っての凸の難易度は更に上がっている。狙うならば敵の注意が高台の坂や線路から逸れたタイミングで一気に駆け抜けて建物やコンテナといった遮蔽物のあるところまで辿り着きたい。そこまで進めればあとはいつもの凸と大きな変わりはないが、索敵施設の存在と凸ルートの起点少なさからまず間違いなく敵に見つかるのでそれを踏まえたルート取りを心掛け、出来れば複数の同時凸を狙うべきだろう。
防衛側はCプラントが相手側の場合、Cプラント奪還とは別に高台を抑えるメンバーも用意すること。高台側からが敵のメイン侵攻ルートになるためCプラント側だけを見ていると綺麗に横っ腹を突かれる羽目になる。そうでなくてもCプラントでの戦闘で相手側が高台を抑えていては戦闘で不利を背負うため、Cプラントとは別に高台も確保する必要がある。敵の凸予防も兼ねて索敵もしっかり高台側を抑えておくようにしたい。逆にCプラントを自軍が抑えている場合、高台からリスポンで戦闘では確かに有利だが、リスポン地点からCプラントまで意外と距離があることと敵はカタパルトで続々とやってくるということからCプラント防衛は意外と難しかったりする。特にリスポン時に目の前に来ていた敵の高台確保組にかまけていたらCプラントがあっさり灰色はやってしまいがちなので注意。むしろ積極的に次の敵のプラントに攻勢をかけてCプラントに敵が攻勢をかけにくい状況を作り出す方が防衛面でも有利になりやすい。その上で味方の何機かが凸を仕掛ければ相手はどんどん後手に回り押し切るのも難しくなくなるだろう。
Cプラントのリスポンが高台という特性からCプラント防衛(侵攻)と第二プラントの侵攻(防衛)が両立しにくい形になっているので高台組とCプラント組の戦力配分が重要になりやすい。その上で、戦闘の主導権はCプラントを確保している側が得るため、攻撃にせよ防衛にせよ、まずはCプラントの確保を第一に考えるべきであること、凸難易度の高さからKD差の重要性も高いため安易に撃破されないことを序盤から意識したい。

索敵：全体は細長い形だが、中央付近は広範囲が求められる。
防衛：遮蔽物が多く、射線が通りにくい。

α陣営

α陣営がカタパルトでプラントCにアクセスすると川を背にして戦う形になる。
水深は機体が完全に沈む程度あり、被撃破状態の機体が水没するとURデバイスで再始動できなくなる。

β陣営

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マップ履歴

日付	要請兵器	備考
2021/08/30(月) 15:00 ～ 2021/09/06(月) 15:00	使用可
2022/10/03(月) 15:00 ～ 2022/10/10(月) 15:00	使用可

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